USHIO紫外線光阻劑硬化設備

紫外線照射機，在LSI制造生產在線使用的紫外線阻劑固化、及電荷消除設備。

配備超高壓UV燈與EXCIMER燈，應用在提升干蝕刻時的耐電漿性、離子注入時的阻劑脫氣與燒制、電荷消除、疲乏消除、及 Low-k Cure等各種用途。

USHIO紫外線光阻劑硬化設備

特征

高照度、均一度照射

初期照度是650mw/cm2以上（220～320nm）、且照度均勻度保證在±10%。

采用依據SEMI規定之裝載接口的EFEM（φ12吋設備）

φ12吋用設備、采用裝載接口(依據SEMI) 的EFEM、以及搬運系統 采用無塵快速的2Finger搬運機器人、以達到高Throughput。

采用WindowsNT PC的高操作性與以GEM300為準（φ12吋設備）

 φ12吋用設備采用Windows NT PC，達到**的操作性。亦符合GEM300規定。

燈管設備更換容易
燈管更換時無須調整，并降低裝置的停機時間。

配備照度一定模式與累積計算曝光模式（φ12吋設備：選購配備）
使用照度一定模式、并累積計算曝光模式、達到制程的穩定化與一致化。

豊富的產品系列
對應φ6吋用設備（可與φ5吋以下共享）、φ8吋用設備（ 可與φ6吋以下共享）、以及φ12吋專用設備等所有工具匣。此外，亦備有準分子(Excimer)燈的φ8吋用設備。

USHIO紫外線光阻劑硬化設備

2Finger搬運機器人

USHIO紫外線光阻劑硬化設備

燈光設備

USHIO紫外線光阻劑硬化設備

主要用途

提升干蝕時的耐電漿性
離子注入時的阻劑脫氣及燒入
電荷消除與消除疲乏 
Low-k Cure 
薄膜磁頭之層間絕緣膜形成
化合物半導體的Lift-Off工程
表面改質 
CCD與CMOS影像儀的去色(bleaching)等

測試機介紹

可使用產品進行各種測試。詳細內容請洽詢。
 ※可能無法滿足部份要求內容、敬請見諒。

產品留言

標題

聯系人

聯系電話

內容

驗證碼

點擊換一張

注：1.可以使用快捷鍵Alt+S或Ctrl+Enter發送信息!
2.如有必要,請您留下您的詳細聯系方式!